光化学反应釜适用工艺：光催化反应、二氧化碳还原、二氧化碳还原制甲醇、二氧化碳还原制甲烷、氮氧化物的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域。适合少量样品的反应，是昂贵或低产量原材料赝品测试的理想的反应装置；根据实验的条件，高压光化学反应釜标配316L不锈钢，钛合金、哈氏合金、锆材等非标材质。

光化学反应釜产品参数

开合方式	KF 快拧式
密封方式	O 型圈自紧密封
换热方式	电加热
加热功率	500~1500W (注 1)
设计温度	250℃
使用温度	50~200℃
控温精度	±1℃ (无强放热吸热情况下)
设计压力	150bar
爆破压力	125bar
使用压力	-1~100bar (注 2)
标准材质	316L (注 3)
搅拌功率	80W
搅拌速度	150~1500r/min(注 4)
操作系统	7 寸电容触摸系统
注 1	不同容积加热功率不同
注 2	使用负压时应特殊说明，配装负压表
注 3	有哈氏合金，蒙乃尔合金，锆材，因科镍,钛材等特殊材质可订制
注 4	磁耦搅拌 150~1000r/min,标配三叶推进式桨叶

产品特点：

* 体积小巧，操作方便；

* 侧面高压视窗；

* 反应釜和加热炉快速分离；

* 集成釜盖放置台；

* 支持在线采样；

* 支持催化剂过滤；

* 真彩大电容触摸屏；

* 铸铝加热器，均热性高，传热快；

* 支持保温计时和启动计时，双计时模式；

* 支持远程控制，具备 RS485 通讯口，可配上位机软件；

* 具备安全联锁功能，超温超压报警；

支持悬浮搅拌，减轻搅拌子底部磨损；